半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、种种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水洗濯半制品、制品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。现在我国电子工业部把电子级水謘hi际醴治甯鲂幸党叨龋治18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分差异水质。

       半导体行业中的超纯水，又名UP水，主要是半导体原质料生产加工、检测和半导体器件的制备用水。电?元器件对超纯水使?水质要求高。市chang情形转变使得元器件尺寸缩小与细腻度上升，使得超纯水水质与水量的手艺指标一直提升。超纯水制备主要包罗以下三个阶段，即起源吸附过滤阶段、反渗透净化阶段和树脂离子交流阶段。其中，离子交流是将水中的正离子与离子交流树脂中的H+离?交流，水中的负离子与离子交流树脂中的OH-离子交流，从而到达纯化水的目的。

       我公司半导体行业用超纯水出水水质完全切合美国ASTM纯水水质尺度、我国电子工业部电子级水謘hi际醭叨龋18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级尺度）、我国电子工业部高纯水水质试行尺度、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质尺度、海内外大规模集成电路水质尺度。

电子工业用超纯水工艺大致分成以下3种：

　　1、接纳离子交流树脂制备电子工业超纯水的传统水处置赏罚方式：

            原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→细密过滤器→中央水箱→阳床→阴床→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

　　2、接纳反渗透水处置赏罚装备与离子交流装备举行组合制备电子工业超纯水的方式：

           原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→细密过滤器→中央水箱→反渗透装备→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

　　3、接纳反渗透装备与电去离子(EDI)装备举行搭配制备电子工业超纯水的的方式这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，生长潜力重大的超纯水制备工艺，：

           原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→细密过滤器→中央水箱→反渗透装备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

我司半导体工业超纯水装备特点：

　　电子工业超纯水装备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、细密过滤器等组成预处置赏罚系统、RO反渗透主机系统、离子交流混床(EDI电除盐系统)系统等组成主要装备系统。原水箱、中央水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、崎岖压水泵均设有崎岖压压力掩护装置、在线水謘hi觳饪刂埔潜、电气接纳PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上接纳推荐和客户要求相统一的要领，使gai装备与其它同类产物相较量，具有更高的性价比和装备可靠性。